在MEMs、晶圓及其它形貌襯底上用超聲噴涂法進(jìn)行光刻膠涂覆
Siansonic（東方金榮）提供用于半導(dǎo)體光刻膠涂覆的超聲波噴涂技術(shù)，相比于旋涂、浸涂等傳統(tǒng)涂覆工藝，其有著均勻度高、對微結(jié)構(gòu)包裹性好、涂覆面積可控等優(yōu)勢。過去10年中，已充分證明利用超聲噴涂技術(shù)進(jìn)行的3D微結(jié)構(gòu)表面光刻膠涂覆，其制備出的光刻膠涂層在微結(jié)構(gòu)的包裹性和均勻度方面都顯著高于傳統(tǒng)旋涂工藝。東方金榮涂膠系統(tǒng)可用于包括硅片、玻璃、陶瓷、金屬等材料的平面和3D結(jié)構(gòu)基材表面涂覆，典型的光刻膠涂層應(yīng)用包括晶圓、MEMs、鏡頭、微流控芯片、過濾器等等。超聲噴涂是一種簡單有效且經(jīng)濟穩(wěn)定的光刻膠涂覆解決方案，Siansonic（東方金榮）超聲噴涂系統(tǒng)采用先進(jìn)的分層技術(shù)，可對送膠流量、噴涂速度和沉積量進(jìn)行精確控制。低速柔和的超聲波霧化技術(shù)使霧化噴霧成為精確、可控的，避免過度噴霧的同時制成超薄均勻的涂層。使用超聲波霧化技術(shù)的直接噴涂被證明是在3D微結(jié)構(gòu)上沉積光刻膠的一種可靠而有效的方法，從而減少了因金屬過度暴露于蝕刻劑而導(dǎo)致的器件故障
Siansonic（東方金榮）超聲波噴頭在噴涂光刻膠工藝中的優(yōu)點
涂層均勻覆蓋各種表面形貌
能夠均勻涂覆高深寬比的溝槽
不易堵塞的噴頭降低維護(hù)成本
能夠以高均勻性沉積數(shù)十微米的加厚涂層
高可控性和穩(wěn)定性
所有超聲噴涂系統(tǒng)的核心是我們自主知識產(chǎn)權(quán)的超聲波噴頭，它通過高頻超聲振動產(chǎn)生均勻柔和的霧化顆粒。超聲噴頭解決了噴嘴堵塞問題，因為不需要通過壓力來產(chǎn)生霧化，并且具有非常窄的液滴尺寸分布，所以進(jìn)一步有助于沉積層均勻性的提高。點擊了解更多有關(guān)超聲波噴頭工作原理。
